产品
自研 / 干法去胶设备
韩国【S社】成熟技术研发产品【光阻去胶】8寸设备,已在韩国进行DEMO评估中,计划2022年Q1 技术导入国内制造,初期针对特殊工艺MEMS ,化合物芯片制造领域客户:中芯国际(绍兴),中芯国际(宁波),三安集成,积塔半导体,新微半导体,立昂微,英诺赛科…等
工艺能力:> 0.18um
产品:砷化镓(GaAs) ,氮化镓(GaN),
碳化硅(SiC), 滤波器 (Filter)
工艺能力:> 0.18um
产品:MEMS
工艺能力:> 90nm
产品:IGBT ,CMOS ,MPU ,MCU,
DSP,RAM,ROM,Flash ,